最近の展望
放射光リソグラフィーによる三次元マイクロ・ナノ構造の形成
2004 年 73 巻 4 号 p. 466-469
詳細
2004 年 73 巻 4 号 p. 466-469
シンクロトロン放射X線リソグラフィーにより数百μmの厚さで高いアスペクト比のマイクロ・ナノ構造体の加工を行うことができる．さらに，高精度X線マスクを用いて200nm幅で15µm厚さのアスペクト比75の構造体や，レジスト内のX線吸収エネルギー分布を変化させ，曲面を有する新規な三次元マイクロ・ナノ構造体を作ることが可能となった．これらの製法の概要と応用の展望を概説する．
