量子デバイスの集積化法は確立していない.本稿では,分子線エピタキシー(MBE)選択成長法を用いた量子細線ネットワークの形成と,これを応用した新しい方式の「ヘキサゴナル2分決定グラフ(BDD)量子集積回路」について述べる.加工基板を用いたMBE選択成長法により,高密度のヘキサゴナル量子細線ネットワークを形成する方法の開発および成長機構の解明に取り組み,細線断面構造の精密制御を可能とするとともに,節点デバイス密度109cm-2を達成した.新回路方式では,細線ネットワークの量子輸送を,ナノメートル寸法のショットキーゲートで制御し,BDDアーキテクチャーの論理回路を実現する.その原理といくつかの回路試作結果や,電力・遅延時間積性能の測定例を紹介する.