応用物理
Online ISSN : 2188-2290
Print ISSN : 0369-8009
解説
パルスレーザー堆積法と表面処理を使った低次元構造の作製とその特性評価
リップマー ミック
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2006 年 75 巻 3 号 p. 303-308

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抄録

遷移金属酸化物は,主にその誘電特性,強誘電性,そして磁気特性のために,さまざまな分野においてマイクロエレクトロニクスへの応用が始まりつつある.現在のアプリケーションでは,アモルファスや多結晶酸化物薄膜が主流である.ここでは,新奇かつ有用な電子物性を有する材料・デバイス開発に新しい道を開くナノ構造ヘテロエピタキシャル酸化物の成長と構造,そして物性の探索について解説する.

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© 2006 公益社団法人応用物理学会
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