応用物理
Online ISSN : 2188-2290
Print ISSN : 0369-8009
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大気圧プラズマによる電子材料洗浄プロセス
屋良 卓也, 岩根 和良, 湯浅 基和
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2006 年 75 巻 4 号 p. 456-460

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抄録

高電圧パルス電界を利用することで,窒素ガス中でも安定かつ大面積の大気圧プラズマ発生が可能になり,LCDガラスの洗浄や,プリント配線分野の表面改質に有効であり実用化されている.窒素ガスを主とする洗浄メカニズムを発光分光や表面分析(XPS)より考察した.

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© 2006 公益社団法人応用物理学会
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