研究紹介
触媒基準エッチング法
2008 年 77 巻 2 号 p. 168-171
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2008 年 77 巻 2 号 p. 168-171
結晶表面をダメージレスに原子レベルで平坦化する新しい加工法として，触媒基準エッチング法を考案した．この方法は，機械研磨の利点である平坦度向上と，化学研磨の利点であるダメージレス表面作成の両方の利点をもった新しい加工法である．本稿では，この加工法を着想するに至った経緯と概念について紹介する．また，省エネルギーパワーデバイス用基板として期待される4H-SiC基板に触媒基準エッチング法を適用した結果について紹介する．
