研究紹介
輻射(ふくしや)流体シミュレーションによる極端紫外光源プラズマの挙動解析
2014 年 83 巻 9 号 p. 741-746
詳細
2014 年 83 巻 9 号 p. 741-746
波長13.5 nm，2%バンド幅の極端紫外線（Extreme UltraViolet: XUV）は回路線幅10 nmの次世代半導体のリソグラフィ用光源として期待されているが，光源出力の増大が最も重要な課題となっている．我々はレーザー生成スズプラズマを用いたXUV光源の高効率化を目指し，輻射流体シミュレーションを用いてXUV光源プラズマの解析を行っている．本稿では現在の光源開発において主流であるダブルパルス照射方式で重要となる“レーザー照射されたスズドロップレットの挙動”と“炭酸ガスレーザー照射によるXUV光発生”のシミュレーション結果を中心に，輻射流体シミュレーションの果たす重要な役割について紹介しながらXUV光源プラズマの最適化の現状を示す．
