研究紹介
室温原子層堆積法とその応用
2017 年 86 巻 9 号 p. 796-800
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2017 年 86 巻 9 号 p. 796-800
原子層堆積法（ALD）の室温化研究について紹介する．ALDの室温化を阻む要因を探るため，有機金属ガスの酸化物表面への吸着のその場観察を試みた．多くの有機金属ガスは，表面のヒドロキシル基を吸着サイトとすることで，室温で吸着する．吸着表面を酸化しながら，ヒドロキシル基を表面に形成する方法として，加湿アルゴン（Ar）をプラズマ励起したガスを酸化剤とすることで，室温堆積を実証した．本プロセスは，室温製膜に加え，3次元形状に陰ひなたなく均一に製膜できる．本稿では，シリカ，アルミナの室温ALD事例を紹介するとともに，その応用として，防触，PETボトルコート，ガスバリヤについて説明する．
