撥水-親水パターンを用いたSnO₂薄膜の微細パターニング

抄録

ガラス基板上に、Ti(O-n-Bu)₄から調製したゾルを用いてTiO₂薄膜を形成し、さらに薄膜上に、加水分解したフルオロアルキルシラン(CF₃(CF₂)_7CH₂CH₂-Si(OCH₃)₃: FAS)を用いてFAS薄膜を形成した。この多層構造の膜上に、フォトマスクを介して紫外光照射を行うことにより、撥水-親水パターンを形成した。この撥水-親水パターン上にSnCl₂とエタノールから調製した溶液をコーティングし、種々の温度で熱処理を行うことによってSnO₂薄膜の微細パターンを作製した。親水部に形成されたパターンは膨らみ形状をしており、底面が50μm四方高さ1μmであることが確認できた。