日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
第15回秋季シンポジウム
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化学溶液法による(Y, Yb)MnO3/Insulator/Siの作製
鈴木 一行符 徳勝西澤 かおり三木 健加藤 一実
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p. 480

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抄録
化学溶液法によりY2O3薄膜及び(Y, Yb)MnO3薄膜の作製を行った。Si(111)基板上に作製したY2O3薄膜は、(111)配向しており、非常に平滑な表面を有していた。この基板上に(Y, Yb)MnO3薄膜を策せしたところ、白金電極上に合成した薄膜と同様に加熱処理雰囲気による薄膜の結晶相や配向性の違いがみられ、Ar中での結晶化により高い結晶性とc軸配向性を示すことが分かった。また、薄膜の微構造は加熱処理雰囲気による違いが小さく、100nm以下の均一な粒子から構成されており、白金電極上に合成した薄膜に比べて平滑な表面を有していた。これはY2O3薄膜の平滑性及び(Y, Yb)MnO3薄膜との格子整合性によるものと考えられる。
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©  日本セラミックス協会 2002
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