抄録
我々は、現在次世代不揮発性メモリーとして注目を浴びている巨大抵抗スイッチング現象が多結晶体SrTiO3/Pd積層素子でも発現することを見出した。
フォーミング処理後に電流-電圧特性において大きなヒステリシスが見られ、+方向で高抵抗⇒低抵抗状態、-方向極性で低抵抗⇒高抵抗状態へのスイッチングが発現した。また抵抗状態を±50V以上の電圧パルスを印加することでも制御することができ、最大2桁の大きな抵抗変化率を得た。大きなスイッチング電圧、大きな抵抗変化率、インピーダンス測定の結果などから、本現象は電極界面だけでなく、SrTiO3粒界で抵抗スイッチングが起こっているものと考えられる。