（平成19年度進歩賞受賞講演）セラミックスの表面形成に伴うミクロ電磁気現象の解明

抄録

本講演では、セラミックスの表面形成に伴うミクロ電磁気現象に関する研究のうち、これまで著者が系統的に行ってきたセラミックスとガラスの破壊に伴うフォトンエミッション（phE）の研究について概観する。phEは、材料破壊の瞬間に生じ、その後数ms～数100msで減衰する。その放出強度は、雰囲気ガス種及び圧力、曲げ強度、材料組織に依存した。このことから、雰囲気ガス放電、破壊に伴い解放されるエネルギー、粒界が破壊に伴うphEに大きな影響を及ぼすことが明らかとなった。