新規層状錫酸化物の合成と粉体特性

抄録

錫塩水溶液と強塩基水溶液を接触させ錫化合物を合成する過程で、水溶性高分子存在下、酸性領域において、既往の報告例がない構造を有する錫酸化物の合成に成功した。XRDパターンを測定したところ、（００ｌ）面に起因する回折ピークのみが観察され、層構造状物質であることが示唆された。本物質のゼーベック係数は負の値を示し、ｎ型半導体であった。同一熱処理条件下において、通常得られる二酸化錫粉末と比較して比抵抗が2桁小さく、7×10²Ω・cmであった。発表では、本物質の析出条件と粉体特性について報告する。