抄録
ゾル－ゲル法によるセラミック薄膜の作製はゲル薄膜の焼成を経由するため，コーティングの対象となる基材は耐熱性の高いものに限られる。しかし、耐熱性の高い材料にゲル薄膜を作製し、焼成してセラミック薄膜にし、プラスチック材料上に転写することができれば、プラスチック材料上にセラミック薄膜を作製したことになる。本研究室では、ポリイミド(PI)をコーティングしたSi(100)基板上にゾル-ゲル法によりZnO配向膜を作製し、接着剤を用いてこのZnO配向膜をポリカーボネート(PC)基板上に転写した。この方法によって、透光性と結晶学的配向性をもつZnO薄膜を耐熱性の低いプラスチック基板上に作製することができた。
