原子配列制御によるSi-OH-Alブレンステッド酸点の高濃度合成

抄録

シリカ/アルミナ複合酸化物は、SiO₄四面体ユニットのSi⁴⁺の一部がAl³⁺に同形置換し、電荷補償のために導入されるH⁺によってSi-OH-Al結合することにより高酸性度を示す。そのためSi-OH-Al水酸基を高濃度に有するシリカ/アルミナ複合酸化物は高プロトン伝導性を示すと考えられる。Si-OH-Al水酸基を高濃度に分散させるためには酸素を介してSiとAl原子を交互に配列する必要があり、本研究では酸と塩基が1：1で反応する酸・塩基反応に注目し、Si-O(H)-Alの原子配列制御を試みた。