日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
2012年年会講演予稿集
セッションID: 1P194
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急速熱アニールによるセラミック薄膜表面へのナノパターン形成
*山内 涼輔譚 ゴォン塩尻 大士小山 浩司金子 智松田 晃史吉本 護
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抄録
自己組織化的にナノ構造を構築する手法は、低コスト・大量生産・大面積加工などの利点がある。本研究では、ステップサファイアの原子ステップを利用した、まったく新しい自己組織的パターニング技術によって、LiドープNiO薄膜表面に幅250 nm、深さ60 nmの周期的ナノ溝配列を形成させることができ、その薄膜は干渉色を呈していることを見出した。また、本手法では、膜厚を制御することで60 nm以下の溝を自由に形成することが可能であり、約30 nmの深さを持つ周期的ナノ溝配列では、干渉色を呈していないことを確認している。
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©  日本セラミックス協会 2012
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