長波長光用レジストパタンをマスクとする短波長光用レジスト露光の検討

抄録

短波長光用レジストを下層として、その上に長波長光用レジストを塗布し、上層の長波長光用レジストに投影露光で形成したパタンを下層露光時の密着マスクとして利用する方法を検討した。長波長光（中心波長480nm）用ノボラック型レジストが短波長として紫外線（波長254nm）を使用する時マキシング材となり得ることを示す。