真空アーク蒸着法によるDLC厚膜の合成

緒方 賢一; 平田 敦

doi:10.11522/pscjspe.2003S.0.153.0

抄録

高真空中にて水素を含まないDLC膜を合成できる真空アーク蒸着装置を用い，DLC膜を合成した．合成した膜についてラマン分光分析，SEM，EDXによる観察を行った．またDLC膜の剥離の原因となる内部応力の緩和，基板との密着力の改善，炭素蒸発源を複数配置することによるDLC膜の高速合成を行うことによりDLC膜の厚膜化を検討した．

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