パウダージェットデポジション法によるハイドロキシアパタイト膜の生成

吉原 信人; セパシィ サイド; 水谷 公一; 澁谷 寿彦; 閻 紀旺; 厨川 常元

doi:10.11522/pscjspe.2009S.0.289.0

2009年度精密工学会春季大会

セッションID: D67

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2009S.0.289.0

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主催: 社団法人精密工学会

パウダージェットデポジション法によるハイドロキシアパタイト膜の生成

*吉原信人, セパシィサイド, 水谷公一, 澁谷寿彦, 閻紀旺, 厨川常元

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キーワード: パウダージェットデポジション, ハイドロキシアパタイト, 噴射加工

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抄録

パウダージェットデポジション(PJD)法により常温大気圧環境下で厚膜を生成することが可能である．本研究では歯科治療への応用を目的とし，PJD法によるハイドロキシアパタイト(HAp)膜の生成を試みる．これまで歯科治療用として新たなPJD装置を開発してきた．本報では開発した装置を用いて成膜条件が膜厚および膜質に与える影響について検討した．

責任著者(Corresponding author)

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