Ti中間層を有する高潤滑性TiN-MoS2複合膜の機械的特性

鈴木 孝幸; 神崎 昌郎

doi:10.11522/pscjspe.2010S.0.511.0

抄録

窒化チタン(TiN)膜の低摩擦化を目的に，マグネトロンスパッタリング法を用いて創成したTiN-MoS₂複合膜は，MoS₂含有量が6%の複合膜においてTiN膜に匹敵する高硬度を示し，MoS₂含有量が22%の複合膜においては，DLC膜と同等以上の低摩擦特性を示した．また，複合膜の密着性を向上させるため，基板との間にTi中間層を形成した結果，摩擦試験においてTiN-MoS₂複合膜の耐久性が向上した．

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