PZTマイクロアクチュエータ薄膜用Au-Pt複合バッファ層の創製条件の探索

滝田 力也; 槌谷 和義; 上辻 靖智

doi:10.11522/pscjspe.2011A.0.515.0

2011年度精密工学会秋季大会

セッションID: J32

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2011A.0.515.0

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主催: 公益社団法人精密工学会

PZTマイクロアクチュエータ薄膜用Au-Pt複合バッファ層の創製条件の探索

*滝田力也, 槌谷和義, 上辻靖智

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キーワード: PZT, 圧電アクチュエータ, ECRスパッタリング, バッファ層

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抄録

近年，超小型のアクチュエータの開発が行われており，その候補材料として応答性に優れた高性能PZT薄膜の創製を行っている．本研究ではAu(111)とPt(111)が交互に配列をしたバッファ層を創製することにより，高圧電性を示すPZT(111)とPZT(110)が交互に配列をしたPZT薄膜創製を目的としている．本報告はAu-Ptバッファ層の最適創製条件を算出し，高圧電性を示すPZT薄膜の創製を行った．

責任著者(Corresponding author)

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