近接場光を用いたナノインプリント残膜測定法に関する研究(第8報)

近接場光学応答特性の実験的検討

抄録

本研究では、次世代リソグラフィー技術として期待されているナノインプリント技術において、その工程で生じる残膜の厚みを高精度に計測する手法として、近接場光を利用した計測法を提案し、プラズモン共鳴に基づいた近接場光検出機構を備えた膜厚計測装置の開発を進めている。本報では、環境擾乱の影響を軽減する事を目的として、近接場光学応答の特性を実験的に検討したので、報告する。