電子線リソグラフィによる超精密微細加工技術とその応用分野（キーノートスピーチ）

抄録

高加速電子線リソグラフィの解像限界とスループットの向上を検討した。具体的には、レジストプロセスの最適化、解像性重視の化学増幅型レジストプロセス開発、および高スループット描画機とのミックス描画法を開発した。応用分野開拓として、ナノインプリントのモールド製造への応用、ナノフォトニクスデバイ等へ適用した結果を報告する。