ケイ素の脱離による炭化ケイ素膜の表面改質

抄録

スパッタリング法で作製した炭化ケイ素膜に対し熱処理を施すことにより，膜表面からケイ素を除去し，炭素層を生成した．生成方法の違いにより変質部の炭素層にどのような構造の変化が現れるかを分析し，構造の差異が機械特性に与える影響についても検討した．その結果，生成した炭素層は炭化ケイ素膜と比較して硬さが向上し，より低い摩擦係数を示すことがわかった．