定在波シフトによる半導体ウエハ表面の超解像光学式欠陥検査（第18報）

コヒーレント結像逐次再構成型超解像による二次元超解像法のシミュレーションによる検討

抄録

高解像度の光学式半導体欠陥検査技術の開発にあたって，周期的照明パターンを空間シフトさせ，複数画像を取得し，計算機による後処理を加えることで，レイリー限界を超えた解像を行う方法を研究している．コヒーレント結像逐次再構成型超解像法の二次元領域への適用を目指し，計算機によるシミュレーションにより二次元コヒーレント結像逐次再構成型超解像法の検討を行ったので報告する．