光スピンホール効果エリプソメトリの開発（第2報） 表面粗さ計測への応用

藤田 寛之; 水谷 康弘; 高谷 裕浩

doi:10.11522/pscjspe.2017A.0_177

2017年度精密工学会秋季大会

セッションID: C16

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2017A.0_177

会議情報

主催: 公益社団法人精密工学会

会議名: 2017年度精密工学会秋季大会

開催地: 大阪大学

開催日: 2017/09/20 - 2017/09/22

光スピンホール効果エリプソメトリの開発（第2報）

表面粗さ計測への応用

*藤田寛之, 水谷康弘, 高谷裕浩

著者情報

キーワード: エリプソメトリ, 偏光, 光スピンホール効果, 量子計測, 表面粗さ

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抄録

ナノメートルオーダの表面粗さやその光学定数を求めるために，光スピンホール効果を利用した量子エリプソメトリを提案している．ここでは，測定試料表面で反射した際に分離した光のシフト量を弱測定することにより，従来のエリプソメトリより高精度な表面粗さ計測が期待できる．第2報では，サブナノメートルオーダの金薄膜をサンプルとした原理検証を行った後に，SiO₂基板表面のRa 0.3nmの差異を検出できたので測定原理とともに報告する．

責任著者(Corresponding author)

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