X線グレーティングのための2光束干渉露光法の開発

グレーティング作製精度の向上

抄録

X線領域における分光を行うために、反射型グレーティングは、レーザー光を分割し交差させることで干渉縞を発生させ露光させ、ミラー表面にパターンを形成する。これまで、2光束干渉露光装置とイオンビームスパッタ装置による作製システムを開発し、グレーティングの作製に成功した。本研究では、露光およびスパッタ現象において理論的な解析を行い、作製における高精度化を行った結果について報告する。