エバネッセント光を応用した超微粒子洗浄現象の実時間観察に関する研究

第6報 : せん断流れ場における浮遊粒子挙動

抄録

ウェハ洗浄のリンス工程において基板表面への超微粒子の再付着防止は必要不可欠である。そこで本稿では、基板表面近傍で発生するせん断流れを再現し、段階的に流速を上昇させ、粒径の異なる粒子の運びやすさをエバネッセント光で観測した。その結果、流れの影響を受けにくい、慣性の小さい、サブ100nm粒子は運ばれにくく、惰性流れの低流速時には表面上でとどまりやすい傾向にあった。