SAXS, USAXS, Ｘ線 CT を用いたゴム中のシリカの分散性評価

抄録

　原料ゴムの末端変性基、シランカップリング剤および混合条件といったシリカ分散状態に影響する処理方法の組み合わせによって分散状態を系統的に変化させたゴムサンプルに対して、小角X線散乱 (SAXS)、超小角Ｘ線散乱 (USAXS)、およびＸ線コンピュータ断層撮影 (Ｘ線 CT) の各測定を実施した。観測領域が異なる測定手法を組み合わせることで、幅広いスケールにまたがったシリカ階層構造の解析が可能となり、各分散処理の影響はシリカ階層ごとに異なることがわかった。