Section A
O/Nb = 2.5, 2.6, 2.7の組成を有する非晶質酸化ニオブ薄膜を利用した 光電気化学特性と同薄膜の構造解析
キーワード:
Photoelectrochemistry,
Structural analysis, Amorphous film,
Niobium oxide,
Synchrotron radiation,
High-energy X-ray diffraction,
X-ray absorption fine structure,
Reverse Monte Carlo simulation,
Bond valence sum,
2017B1894,
2018A1049,
2018A1543,
BL19B2,
BL04B2,
BL14B2
2020 年 8 巻 2 号 p. 324-328
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