抄録
Ｘ線領域のコヒーレントフォトニクスを発展させるためには、Ｘ線レーザーの制御を中心に様々な機能を実証していく必要がある。その意味で、X線自由電子レーザー (XFEL) 励起内殻電子Ｘ線レーザーは、利得媒質を固体にできるために、媒質内で制御できる可能性を秘めている。その中で、特徴あるパルス発生としてダブルパルス Kα 線レーザーが達成されてきた。この研究では、この２つのパルスをポンププローブの光源として用い、物質の高速応答を計測する手法を開発したものである。残念ながらハードＸ線の領域では可視域のレーザーなどと違い部分反射鏡やパルス幅の計測、2つの異なる時間のパルス強度などを計測する手法があまりない。そのため、ここでは、空間分割を使って、試料を透過するものと透過しないＸ線レーザーの時間変調の変化をもとに、ポンププローブ系を構成しようとした結果である。
