レーザ強度変調露光における階調再現性の解析(II)

—DCバイアス現像下の低濃度強調現像とAC重畳効果—

抄録

レーザ強度変調露光方式を用いた電子写真複写プロセスで形成される微細な潜像パターンを現像する際の現像機構について検討した．DCバイアス現像下において，低濃度の潜像パターンが潜像電位分布から計算される実効現像電位に対してより多く現像される現象に対して，微細に繰り返される潜像電位分布の正の領域から隣接する負の領域へ回り込む電界について電場平衡機構を適用したモデルを考案した．また，AC重畳条件についても考察し，AC重畳条件によっては，接触現像と飛翔現像が同時に発生し，現像特性のリニアリティを損なうことを見いだした．