エキシマレーザ加工により高分子光導波路に形成された45度マイクロミラー

抄録

光電気混載板の任意の光導波路コアから光入出力を可能とするマイクロミラーの形成方法を開発した。ポリイミド光導波路に対して斜めにKrFエキシマレーザを照射させることにより, 45度マイクロミラーが±1度の精度で形成できた。加工したマイクロミラーは平面ミラーではなく, コアの幅方向に対して凹面ミラーとなっていた。これは, 集光効果があるために, 90度光路変換を伴う光結合において, 非常に有利であることがわかった。得られたマイクロミラーの反射損失は約0.6dBであり, 実用レベルであることが示された。