中性子反射率解析によるフェノール樹脂／シリカ界面構造制御の検討

抄録

ノボラック–ヘキサメチレンテトラミン（HMTA）硬化系フェノール樹脂／シリカ界面構造制御のため，HMTA 濃度，ノボラック分子量分布，シリカ表面濡れ性が，ナノ界面構造形成に及ぼす影響を中性子反射率法により解析した。ノボラック吸着層として観察される界面層厚さは，HMTA 濃度やノボラック分子量分布の影響を受けにくいが，シリカ表面が疎水性になるほど厚い界面が形成される傾向が確認された。また，分子量分布の多分散度が小さいノボラックを用いるほど，ラフネスの小さなフラットな界面構造が形成されることが明らかとなった。一方，シリカ表面が疎水性になるほど界面層のラフネスが大きくなり，界面層とバルク層の切り替わりが不明瞭な界面構造が形成されることも明らかとなった。