抄録
近年、球状Siを用いた太陽電池が製品化され、製造工程におけるSiの切断ロスが発生しない技術として注目されている。従来の球状Si作製は自由落下法による報告が主であるが、本研究ではSi融液に濡れないセラミックス基板を作製し、この基板上でSi融液をゆっくりと冷却することで球状Siの作製を行った。金属光沢が顕著な球状Si(φ2mm)を再現性良く作製することに成功した。使用した基板へのSi融液の染み込みは無く、基板はそのまま再使用することが可能であった。作製した球状Siを研磨してエッチングを行うことで粒界の観察を行い、主に双晶のみを含む結晶性の良いものであることが確かめられた。