ラビングによるポリイミドの自己組織化ナノパターンに関する研究

藤山 孝太郎; 金子 新; 諸貫 信行; 川上 浩良

doi:10.11522/pscjspe.2004S.0.633.0

2004年度精密工学会春季大会

セッションID: L09

DOI https://doi.org/10.11522/pscjspe.2004S.0.633.0

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主催: 社団法人精密工学会

マイクロ・ナノ加工とその応用(2)

ラビングによるポリイミドの自己組織化ナノパターンに関する研究

*藤山孝太郎, 金子新, 諸貫信行, 川上浩良

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キーワード: ラビング, ポリイミド, 自己組織化, ナノパターン

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抄録

高分子の一種であるポリイミドを特定の布でラビングすると,表面に微細な凹凸が自己組織的に創成される.本研究では,高精度なラビング装置を作製し,ピッチが数百nmから数μmで,高さ数nmの規則的な微小溝形状を大面積に創成することに成功した.さらに,ラビング圧やラビング速度等の条件が,創成される微小溝の形状に及ぼす影響を実験的に明らかにした.

責任著者(Corresponding author)

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