抄録
ガスクロマトグラフィー-マイクロ波誘導プラズマ原子発光分析法(GC-MIP-AES)を脂肪酸(FA),モノアシルグリセリン(MG)及びジアシルグリセリン(DG)トリメチルシリル(TMS)エステル(又はエーテル)誘導体の元素組成分析に適用し評価を行った。ケイ素による負の干渉を酸素発光クロマトグラムにおいて認めた。その干渉の強度及び正の酸素発光強度は,ヘリウムメークアップガス流量の増加と共に反比例的に減少した。ヘリウムメークアップガス流量の至適条件下(160mL/min)において,FA, MG及びDG-TMS誘導体の元素組成分析における酸素個数は,理論値±0.3個以内と計算され,それらの相対標準偏差(%)は,3.1% (FA-TMS), 4.1% (MG-TMS)及び4.5% (DG-TMS)以内であった。
