フェムト秒レーザを用いたダブルパルスビームによる励起状態面の表面加工に関する研究（第九報）

加工変質層の元素組成評価

抄録

筆者らはパワー半導体基板の高効率・高精度加工技術の確立を目的として，フェムト秒レーザを利用したダブルパルスビーム照射による光励起加工を提案している．本研究では，近赤外光の超短パルスレーザによる光表面励起加工により，パワー半導体表面の微細加工，高効率化工を実現することを目指す．本報告では，レーザ照射によって生じる加工変質層の元素組成をEDSを用いて分析した結果について報告する．