外乱除去のためのILQ制御系設計とプラズマCVD反応器の温度制御への応用

抄録

ここでは，外乱除去を目的としたILQ最適サーボ系の設計について発表を行う．基本的には，一般化オブザーバを用いたフィードバック制御系の周波数整形に基づいた設計方法であり，ILQ制御系の大きな特長の一つである入力部位の調整パラメータを増加させることで，外乱の漸近的除去性能の向上することも示される． そして，提案手法の有効性を，プラズマチャンバー内の温度制御系における外乱除去問題に適用することで検証する．