円筒試料内側に円錐ミラーを挿入し、マスクパターンを反射させることで内面円周方向に一括で露光する光リソグラフィ技術の研究を行った。金属試料として内径 14mmのステンレス製パイプを用いて内側にネガ型レジストを塗布し、同心円状のラインアンドスペースパターンを描いたマスクを用いて約等倍で投影露光を行った。最小100μmラインアンドスペースパターンを内面円周観察8方向に形成することができた。

マトリクス状に配置した青色LEDと光ファイバを用い、簡便安価に二次元コードマーク等の矩形パターンを転写する露光方法の検討を行っている。直径125µmの光ファイバの片端面を正方形に成型して複数並べ、もう一方にLEDを接続することで縦横8×8の発光を制御できる正方形ファイバマトリクスを製作した。露光倍率1:10の投影露光装置を用いて実験を行い、線幅約12µmの任意の矩形パターンを形成できた。

円筒試料に円錐ミラーを挿入し、平面に描かれたマスクパターンを反射させて円筒内面に一括でパターンを転写する技術において、文字や模様等の任意パターンを転写するにはマスクパターンを適切に補正させる必要がある。パターン形状を補正した専用のマスクを設計・製作し、円筒内径14mmのSUSパイプ内面に直径10mm頂角90度の円錐ミラーを挿入して露光実験を行い、約2.5mmの円と正方形のパターン形成に成功した。

円筒試料の内側に円錐ミラーを入れて投影パターンを反射させ、内面円周方向に一括露光する光リソグラフィ技術を研究中である。等倍で投影する光学系の途中にハーフミラーを設置し、円筒試料内面のパターン像をディスプレイに映す観察光学系を導入した。線幅50μmの同心円パターンをレチクルに用い、レジストを塗布した内径 14mm の透明円筒試料内面の一部にライン＆スペースパターンを形成できた。

スペックル光を利用してレジストにランダムなパターンを形成するスペックル光リソグラフィ技術においてスペックルの発生源を表面散乱体から拡散性の高いオパール拡散板という体積散乱体に変えてパターン形成特性を自作の露光実験装置で検討した。ポジ型レジストを1μm に塗布したウエハに露光した結果、縮小投影レンズを用いることなく最小1μm程度のパターンを含む複雑な形状のレジストパターンを形成することができた。

青色発光ダイオードと開口を制限したファイバを用い、より微細なコードマーク等の矩形パターンを転写できる新しい露光方法を検討した。一端を250μm角に成形したファイバマトリックスに、同ピッチの小さな正方形開口部を持ったマスクを設置し、自作の1/10投影露光装置のレチクル位置に設置した。露光の結果、最小6μmの正方形パターンおよび、走査露光によって12.5μmの直線パターンを転写できた。

青色発光ダイオードと光ファイバを利用して簡便安価に2次元コードマーク等の矩形パターンを転写する露光方法の検討を行っている。今まで、直径250μmの円形光ファイバの先端を四角形状に成型し、自作の露光装置のレチクル位置に設置して露光実験を行ってきた。今回、光ファイバ成型用の治具を新作し、直径125μmの細い円形光ファイバを一列に並べて成型し、角は少し丸いが一辺が125μmの四角形状の光ファイバアレイを製作できる見通しを得た。

青色発光ダイオードと光ファイバを利用して簡便安価に2次元コードマーク等の矩形パターンを転写する露光方法の検討を行っている。前報で直径125µmの光ファイバの先端を正方形に成型し、一列光ファイバアレイを製作した。今回は、成型した複数の光ファイバアレイを重ねて光ファイバマトリクスを製作した。自作の1/10縮小投影露光装置に設置した結果、約12µmの正方形マトリクスパターンを転写できた。

屈折率分布型レンズアレイを投影レンズとする走査露光により、簡便安価かつ大領域にマイクロオーダの微細パターンを転写する方法を検討している。従来、1µm膜厚のポジ型レジストで微細化とフィールド内の均一露光に注力して来たが、今回、50〜100µmの厚いネガ型レジストに対してライン&スペースパターンの形成実験を行なった。アスペクト比１ぐらいまでは、垂直に近い側壁を持つパターンを形成できることが分かった。