実環境中では,異種のコロイドや表面が共存し,それらの間の相互作用のために,イオンの吸着が影響を受け,吸着モデルの加算性が成立しないことが報告されている.本研究では,フミン酸(HA)とゲータイト間の相互作用がどのようにH
+, Cu
2+, UO
22+の吸着に影響を及ぼしうるかという点を明らかにすることを目的として, 2元系および3元系における吸着実験の比較を行った.H
+については,ゲータイト表面へのHA自体の吸着の結果,低pH領域で,HAに負電荷(H
+脱離)が,高pH領域でゲータイト表面に正電荷が誘起(H
+共吸着)されることが分かった.さらに,Cu
2+の場合は,HAとゲータイトの間の相互作用による正味の吸着量の増加が, UO
22+の場合は,減少が見られた.前者に関しては,ゲータイト表面において,協奏的にHAからのH
+脱離とCu
2+の(HAへの)吸着の促進により,後者は,HAとUO
22+のゲータイト表面サイトに対する直接的な競合によることが示唆された.
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