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戸田 智之, 山崎 智基, 宮本 泰成, 村上 陽平
セッションID: D61
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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高平坦度が必要とされるシリコンウェーハの研磨工程に於いて、研磨条件・研磨パッド・研磨スラリーの各要素はいずれもウェーハの平坦度に深く関与する。本稿では特に研摩スラリーに含まれるシリカ粒子の特性に着目し、ウェーハ外周部の平坦度との関係を確認した。
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光子相関法による並進拡散係数計測
林 照剛, 世利 俊樹, 黒河 周平, 松川 洋二
セッションID: D62
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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本研究では,蛍光ナノプローブを用いたスラリー中の蛍光プローブおよび蛍光プローブで標識された砥粒ナノ粒子のブラウン運動解析を行い,その解析結果に基づき,砥粒ナノ粒子の粒度分布を求める.本報告では,ナノプローブで標識された砥粒ナノ粒子の並進拡散計測を行うために,光子相関計測システムを試作し,その性能検証を行った結果について報告する.
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角屋 正人, 中川 光俊
セッションID: D63
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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マイクロスクラッチ低減のためCMPスラリーのろ過に微細多孔質膜フィルターが適用されているが、早期閉塞による短ろ過寿命が課題である。本研究では、スラリー中の砥粒濃度、粗大粒子数とろ過寿命の関係が検討された。その結果、適切なプレろ過による粗大粒子数の低減がろ過寿命延長に著しい効果のあること、砥粒濃度が低いほど効果の大きいことが示された。
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液膜厚み方向のスラリー流れ場と研磨パッド表面構造の関係
冨家 勇一, 畝田 道雄, 堀田 和利, 玉井 一誠, 森永 均, 石川 憲一
セッションID: D64
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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本研究では,DIC法(Digital Image Correlation:デジタル画像相関法)を用いて,難加工基板のCMPにおける基板近傍におけるスラリーフローの解明を目的とする.本報告では,サファイア基板を対象とし,観察領域に入射させる照度によってスラリーの液膜厚み当たりの透過率が変化する現象を利用して,液膜厚み方向のスラリー流れ場を評価した.その結果,基板近傍の接触界面におけるスラリー流速を推定し,研磨パッド表面構造から妥当性を検証した結果を述べる.
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国内の現状と産総研の取り組み
奥村 元
セッションID: D66
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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昨今、省エネや電力の効率的運用のためのキーテクノロジーとして、SiC等の新規半導体材料に立脚するパワーエレクトロニクス革新が注目を集めている。本講演では、パワーエレクトロニクス革新の意義、国家プロジェクトを含めた関連する技術開発(結晶成長、ウェハ加工、デバイス/モジュール作製、回路/変換器設計試作)の現状と今後の開発の方向性を紹介し、今後の技術開発のあり方を議論する。
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中平 雄太, 礒橋 藍, Bui Pho, 稻田 辰昭, 藤 大雪, 松山 智至, 佐野 泰久, 山内 和人
セッションID: D68
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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触媒表面基準エッチング法は砥粒を用いず,化学エッチングにより平坦化を行う研磨手法である.本手法では加工時間の経過に伴い,触媒被毒が進行し,加工速度が低下するという問題がある.触媒表面を水素終端化し,触媒/被毒物間の結合を切断することで被毒除去が可能であると考えた.本研究では,水素水,触媒電位制御による洗浄処理を行い,洗浄性の有無を評価した.いずれも加工速度は安定化し,被毒物の除去が確認された.
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細川 仁志, 小船 心之輔, 山田 洋平, 池野 順一
セッションID: D69
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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本研究ではメカノケミカル反応を利用した鏡面創成用砥石の開発を目標としている。本報では機械的に難加工性であるSiC単結晶を加工対象とし、砥粒に酸化剤を用いたメカノケミカル砥石を試作し、加工実験を試みた。発表ではC面の研削実験として表面性状測定結果および加工現象の分析結果について報告する。
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大鹿 真悟, 鈴木 教和, 橋本 洋平, 社本 英二
セッションID: D73
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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研磨パッド表面に存在する凹凸構造は研磨効率に直接的に影響するため,その分析は研磨メカニズムを理解する上で重要である.本研究では,研磨パッドの表面アスペリティを楕円球と楕円錐の集合体としてモデル化し,状測定結果から研磨に作用すると考えられる箇所の形状パラメータを同定する手法を考案した.さらに,弾性変形を仮定した力学モデルを定式化し,動的圧縮試験の結果から,材料物性パラメータについて分析を行った.
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早川 光祐, 畝田 道雄, 澁谷 和孝, 中村 由夫, 市川 大造, 石川 憲一
セッションID: D74
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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本研究では両面同時研磨を対象とした上下定盤の研磨パッド表面性状と研磨特性の関係を明らかにすることを目的としている.具体的では,接触画像解析法に基づく研磨パッド表面性状測定を上定盤の研磨パッドでも実現するため,ばね機構を用いた専用装置を試作した.ここでは,試作装置の概要や特徴を述べるとともに,基礎的な検討によって有効性を評価した結果を報告する.
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御園生 博隆, 鈴木 教和, 大鹿 真悟, 社本 英二
セッションID: D75
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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研磨プロセスのミクロな材料除去メカニズムを説明可能な理論は確立されていない.これが研磨効率の推定を困難にし,効率的なプロセス開発の妨げとなっている.本研究では,研磨効率のその場観察手法を提案する.材料除去に起因する赤外線をウェハ越しに観察することで,研磨中の局所的な材料除去の発生個所を特定する.表面凹凸が制御された織布パッドによる検証実験を実施し,ミクロな材料除去メカニズムについて考察を行った.
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林 照剛, 松永 啓伍, 黒河 周平, 横尾 英昭, 松川 洋二, 長谷川 登, 錦野 将元, 乙部 智仁, 熊田 高之
セッションID: D77
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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筆者らは,フェムト秒レーザーによる光表面励起効果を利用し,ワイドバンドギャップ半導体表面を低照度ビームで加工する,低照度ダブルパルスビームによる表面励起加工技術を提案している.本研究では,ワイドバンドギャップ半導体の損傷閾値以下の照度のレーザーで,半導体表面のナノ加工を行った結果について報告する.
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本明 拓也, 金子 祥大, 山田 洋平, 池野 順一
セッションID: D78
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
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溶融アルカリを用いたSiCのウエットエッチングは、従来SiCの結晶欠陥評価に用いられてきた。しかし、本研究ではこのエッチングを難加工材料であるSiCの高能率鏡面創成加工に適用することを目的に検討を行っている。本報では、特定条件下でSi面が高能率にかつエッチピットのない鏡面になることを見出したのでその基本特性を調査した結果について報告する。
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炭化ケイ素基板の加工
宮崎 俊亘, 両粂 玲志, 佐野 泰久, 松山 智至, 山内 和人
セッションID: D79
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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SiCやGaN、ダイヤモンドといった次世代半導体基板の実用化のために、これらの材料の高能率平坦化加工が求められている。高能率加工法として大気圧プラズマを用いたプラズマCVMが知られているが、この加工法では平坦化の作用はない。そこで我々は、Fラジカルを基準面となる平板に吸着させ試料表面まで輸送することで試料を平坦化する新しい加工法を開発している。本発表では、SiC基板の加工結果について報告する。
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水素添加,基板バイアスの変化と膜質の関係
明石 幸治, 若井 俊, 松井 伸介, 梅村 茂
セッションID: E01
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
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ナノマイクロ加工を行う際にAFMを用いた加工法が検討されている.しかし、加工を行う探針への摩耗が問題になっている.そこで、AFM探針に高硬度なECRスパッタカーボン薄膜を被膜することで,耐摩耗性が向上しさらなる機械的特性の進展が期待できる.本研究では,探針のさらなる品質向上と目的として水素添加膜と基板バイアスとの膜質の特性を調べる。
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材料除去速度に及ぼす電圧印加の効果
山本 紘太, 古川 有里乃, 笹野 順司, 永井 萌土, 柴田 隆行
セッションID: E02
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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本研究では,加工対象である固体表面と雰囲気物質(液体)の化学反応を“触媒”によって促進し,かつ当該反応をナノ空間内に制御することで,位置選択的に材料除去(化学エッチング)を行うナノ加工技術の開発を目的としている.本報では,白金(Pt)を被覆した原子間力顕微鏡(AFM)プローブを用いた水中でのSiの加工における材料除去速度(電気化学反応)の向上を目的とし,電圧印加の効果を調査し,加工メカニズムを考察した.
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徳山 達也, 手島 弘貴, 川上 洋司, 佐藤 嘉洋
セッションID: E03
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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無酸素銅にダイヤモンドバイトを用いた超精密切削を施し,被削材表面に生じた結晶粒界段差に対して,光学顕微鏡,原子間力顕微鏡(AFM),電子線後方散乱回折法(EBSD)を用いた観察を行った.結晶粒界段差の高さは経時的に線形増大し,その後増加が減少した.結晶粒界段差を形成する二対の結晶の平均粒径,方位差,Σ値を測定し,それらの値と結晶粒界段差の高さの関係を示した.
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中野 剛嗣, 太田 稔, 江頭 快, 山口 桂司, 前田 晃希, 上原 義貴
セッションID: E04
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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自由曲面を有する材料表面に微細構造を高能率に創成する新たな微細加工法の確立を目的として,微細塑性加工の一つであるマイクロボールフォーミング(MBF)法を考案した.MBF法は,外周面に微細形状を有するボール工具を用いて材料表面に微細形状を転写する加工法である.本報告では,MBF装置を用いて平面及び傾斜面の表面に対してMBF法を行った.その結果,数µmオーダーの微細構造の創成が可能であることを明らかにした.
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栗田 恒雄, 本郷 舜也, 水原 和行, 芦田 極
セッションID: E06
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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これまでモールドの表面のみをレーザにより加熱することで,加熱,冷却サイクルの短縮させるレーザインプリント複合加工法を提案した.本報では,転写加工の状態と加工温度の関係について明らかにし,加工温度を用いた加工状態のモニタリング可能性について調査した.
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川原 公介, 沢田 博司
セッションID: E07
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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液滴の挙動を制御することは産業・医療機器の高性能化において重要である.濡れ性は表面積倍率の増加により強調可能であり,例えば撥液性表面に粗さがあると液滴の接触角を増加できる.本研究ではフッ素コーティングの前処理として超短パルスレーザ照射によりステンレス表面を蒸散させた.サブミクロンの表面微細構造形成により表面積倍率が増加し,また改質・洗浄効果でコーティング剤被覆率が100%近くに達することを確認した.
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イオン照射条件によるラマン散乱スペクトルの変化
近野 佑太, 山口 誠, 川堰 宣隆, 神津 知己, 森田 昇, 西村 一仁
セッションID: E08
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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集束イオンビーム加工を応用した精密加工用工具の開発について検討している。これまで、集束イオンビーム加工することにより単結晶ダイヤモンドに変質層が形成され、深紫外光照射により変質層の消失が起こることが確認された。本発表では、励起光に深紫外光を用いる深紫外顕微ラマンを行い加工変質層の消失の過程と加工変質層の消失において集束イオンビームの照射条件の関係性について検討する。
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佐藤 法幸, 百田 佐多生, 冨永 大輔, 杢尾 絋太郎, 瀬尾 拓也, 田口 健太, 與本 祐輔, 谷口 淳
セッションID: E09
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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Arビームを90keVと700keVの二種類のエネルギーで、照射量1×10の15乗から200×10の17乗[ion/cm2]の範囲でSiC結晶に照射し、照射部の隆起高さを測定した。また、実験条件の最適化を計るため、TRIMを使って照射効果や飛程分布の計算を行った。実験の結果、SiC結晶表面上に隆起構造が加工できた。隆起高さは1nmから100nmの間で5nmの程度の精度で制御できることが分かった。
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機能性評価に向けた表面微細構造創製装置の開発
鈴木 裕貴, 松本 侑己, 道畑 正岐, 高増 潔, 高橋 哲
セッションID: E13
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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サブミクロンオーダの加工分解能を持つ高速3次元造形法を実現するため,本研究ではエバネッセント光を用いた光造形法を提案している.これまでの報告で,生物の持つ機能的な表面微細構造を模倣するため,複数の光束の干渉を利用する手法を提案し,理論解析と基礎実験を進めてきた.本報では,機能性を評価するのに必要な数ミリメートルオーダの加工領域を持つ造形装置の開発について述べる.
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森 章洋, 三宮 龍, 小林 隼人, 長谷川 真之, 長橋 和人, 金子 新
セッションID: E14
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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薄膜のトランスファプリント(TP)では,基板-薄膜間の表面力が転写性に影響するが,その評価手法は確立できていない.本報告では,表面力測定装置を用いて各種基板の表面力を評価し,TPの転写性を明らかにすることを試みている.PDMSとh-PDMSはいずれも同程度の接触角(100°程度)を示すが,ガラスプローブで測定した表面力は583.5μNと151.4μNと差異が見られた.両者をスタンプとしたTPにおいてもAu薄膜の転写性に違いが確認された.
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鈴木 隆太, 松坂 壮太, 比田井 洋史, 千葉 明, 森田 昇
セッションID: E15
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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本研究では,電圧印加を併用した固体イオン交換法を用いて,ガラス表面にAgイオンとNaイオンの添加を行った.Ag添加の後にNa添加を施すことで,ガラス表面側から内部側へのAg添加の領域の移動が可能となり,ガラス表面に対してNa添加の領域とAg添加の領域が形成される.また,イオン添加後,イオン添加時と逆向きの電圧印加により,ガラス内部に添加したAgの層状の析出物の形成が可能である.
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佐藤 運海, 川久保 英樹
セッションID: E16
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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45パーマロイ材は磁気特性に優れており,磁気ディスクなどに多く使用されている.本研究は,化学薬液の替わりに,環境負荷が小さく,製造コストが低いNa
2SO
4電解酸化水を45パーマロイ材表面処理に応用することを目的として,45パーマロイ材の研磨面のミクロ形状に及ぼすNa
2SO
4電解酸化水の影響を解明した.化学薬液と比べ,Na
2SO
4電解酸化水は研磨面をより均一にエッチングできる結果を得た.
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佐藤 尚行, 谷口 淳
セッションID: E31
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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近年、タブレット端末、カーナビ等のタッチパネルのタッチパネルとして静電容量方式が利用されている。静電容量方式には導電性と透明性を兼ねた透明電極膜が必要とされるが、高い導電性および透明性の透明電極作製のためには微細かつ高アスペクト比のモールド作製が望まれる。そこで本研究では、EBLにより微細パターンの描画を行い、ドライエッチングによるパターンの掘り込みを行って微細高アスペクト比モールドを作製した。
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小林 野歩, 堀内 敏行
セッションID: E32
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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膜厚10μmのポジ型レジストを用い、結像位置を意図的にずらしたレンズ投影露光によりマイクロレンズアレイの型とする正方配置と六方最密配置の凹面パターンを形成した。形成した凹曲面型にエポキシ樹脂を流し込んで固めた後、剥離すればマイクロレンズアレイを成形できることが分かった。最後に、レンズの集光性能を検証した。製作したレンズのピッチは42.1μm、曲率半径は28.3μm、集光スポット径は約3μmであった。
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高野 雄太, 谷口 淳
セッションID: E33
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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微細加工技術としてNIL(Nano Imprint Lithography)が注目されているが、従来のものではモールドを平面状に作製するためパターンの転写が連続的に行えないというデメリットがある。そこで、本研究では転写を連続的に行うために、Roll to Roll技術に使用できるロール状モールドの表面へ描画し、ナノオーダーのドットパターンの描画に成功した。本研究の成果はモールドの強度が向上することから、大面積の転写も可能になると考えられる。
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高橋 宏志, 相良 友也, 堀内 敏行
セッションID: E34
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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小径のステントや細径網目フィルタなどの加工に対応する技術を得るため、電解エッチングを用いて外径100μm、内径60μmのSUS304ステンレス管にスリット形状の穴を円周方向90度おきに4列、軸方向に22個ずつ、計88個開けた。マスキングにはレーザ走査リソグラフィで形成したレジストパターンを使用した。またアンダーカットの影響を軽減し、加工後の形状をより精密にするため、薄肉化を行った。
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Au-Pd-Pt触媒の開発
白井 領, 早瀬 仁則
セッションID: E36
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
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シリコン基板上に燃料流路と触媒層を一体成型した薄型燃料電池の開発を進めている.前報までに,多孔質Pdに原子層レベルのPtを堆積したPd-Pt触媒が一酸化炭素への被毒耐性が高いことを示した.しかし,Pdも白金程度の資源量しか見込めず,より豊富な金属で触媒層を形成する必要がある.そこで,価格は高いものの比較的豊富に存在するAuを基材とするAu-Pd-Pt触媒の検討を始めた.
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和田山 久広, 谷口 淳
セッションID: E37
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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近年、新たなデバイスとしてプラズモンメモリのようなプラズモンデバイスが着目されている。ナノオーダーの金属パターンと絶縁層である樹脂を積層させた構造が必要となっているが、真空蒸着による金属パターンの積層では、時間がかかるプロセスであるためスループットとコストを改良する必要がある。そこで本研究では、大気中で使用することができる銀インクを用いて銀ナノドットアレイの積層構造を作製した。
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原子状水素がNW-Si成長に及ぼす影響
竹本 啓輝, 垣内 弘章, 安武 潔, 大参 宏昌
セッションID: E38
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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本研究では,毒性のある原料ガスを一切用いない高圧水素プラズマ化学輸送法を利用し,直径や成長方向が任意に制御されたSiナノワイヤ(NW-Si)の形成を目指している.講演では,本手法を用いてプラズマ中で形成されるNW-Siの長さや密度のばらつきの発生には,プラズマ中の原子状水素が大きく関与していると考え,水素プラズマによる成膜前駆体生成とNW-Siの形成部分を分離することで原子状水素の影響の抑制を試みた.その結果について報告する.
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衛藤 ひかり, 日和佐 伸, 谷口 淳
セッションID: E39
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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反射防止フィルムはディスプレイに用いられているが,タッチパネル等への応用を考えるとモスアイ構造の表面に手の油などが付着することで反射防止効果が阻害されてしまう。そこで本研究では,フッ素系樹脂成分を含むUV硬化性防汚性樹脂を用いてモスアイ構造を作製した。防汚性の評価として色付き人工指紋液をモスアイ上に付着させた後ふき取り試験を行い、ふき取りによって反射防止効果に影響がないということが明らかになった。
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安田 周平, 松山 智至, 岡田 浩巳, 佐野 泰久, 香村 芳樹, 矢橋 牧名, 石川 哲也, 山内 和人
セッションID: E61
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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我々の研究グループはこれまでに,Advanced Kirkpatrick-Baez ミラー結像光学系を用いた結像型X線顕微鏡を開発し,色収差の影響なく50nmの空間分解能を実現している.本研究では,色収差なしを生かした応用観察である蛍光X線結像の実証を進めた.結像ミラーによる4回の全反射を,励起光と蛍光を隔てるフィルターとして用いることで,蛍光X線の結像に成功したのでその結果を詳細に報告する.
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小型X線結像ミラーの作製と評価
山田 純平, 松山 智至, 山内 和人
セッションID: E62
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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高分解能,色収差なし,小型,高拡大倍率を達成するX線結像光学系の実現において, X線結像ミラーの作製は最も重要な開発要素の一つである.特に,小型かつ急峻な曲面を有する双曲面凸ミラーと楕円面凹ミラーを2 nm PV以下の形状精度で作製しなければならない.本発表では,これまでに開発したイオンビーム加工装置とスティッチング干渉計を用いて,X線結像ミラーの加工・計測を行い,その性能を評価した結果について報告する.
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SACLAにおける分割パルスの時空間重複の実現
平野 嵩, 大坂 泰斗, 佐野 泰久, 犬伏 雄一, 松山 智至, 登野 健介, 石川 哲也, 山内 和人, 矢橋 牧名
セッションID: E63
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
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硬X線領域における超高速現象観察実現のため,Si(220)結晶素子に基づくX線自由電子レーザー (XFEL) 用分割・遅延光学系を開発した.今回,XFEL施設SACLAにおいて本光学系により生成した可干渉な分割XFELパルスを用いた自己相関実験を実施し,フェムト秒精度の遅延時間制御,及び時空間的重複による干渉縞の直接観察を硬X線領域において世界で初めて達成した.本発表では,本実験結果の詳細に関して報告する.
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露光システムの設計
荻本 浩人, 三村 秀和
セッションID: E64
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
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近年,軟X線を利用した発光分光や光電子分光において分光器の高精度化の需要が高まっており,軟X線の分光に適した回折格子の開発が盛んに行われている.本研究では,ホログラフィック露光法においてレーザー光束の波面を制御することで干渉縞の間隔を自由に形成し,自由間隔を持ったラミナー型回折格子を開発する.本稿では空間位相変調器LCOS-SLMを用いた波面制御露光光学系の設計に関して報告する.
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非接触変位センサを用いた零位法装置の開発と基礎評価
湯本 博勝, 小山 貴久, 大橋 治彦
セッションID: E66
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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X線ナノ集光ミラー等の数m級の小さな曲率半径や,±5mrad以上の大きなスロープ分布を有する高精度非球面に対して1nmRMS以下の形状計測再現性を目標とする.このため非接触変位センサを用いた零位法に基づくプローブ走査式表面形状計測装置を開発した.本装置により100mm長の平面ミラーを0.1mm間隔で測定した結果,1ラインあたり15分の測定で,再現性4.3nmRMSを達成した.
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マイクロ波プラズマジェット加工における加工速度のCF4/O2組成依存性
小林 勇輝, 後藤 惟樹, 遠藤 勝義, 山崎 大, 丸山 龍治, 林田 洋寿, 曽山 和彦, 山村 和也
セッションID: E67
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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現在,中性子応用計測における測定時間短縮のため,集光デバイスを用いた中性子ビームの高強度化が求められている.我々はマイクロ波プラズマジェットを用いた数値制御PCVMにより,合成石英ガラス製のマンドレルを作製し,その上にNiC/Tiの多層膜を成膜することで,中性子集光用WolterⅠ 型ミラーの作製を目指している.本報では,合成石英ガラス基板のマイクロ波プラズマジェット加工における加工速度のCF4/O2組成依存性について評価した.
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石英ガラス基板のプラズマジェット加工における加工速度の基板温度依存性
後藤 惟樹, 小林 勇輝, 遠藤 勝義, 山崎 大, 丸山 龍治, 林田 洋寿, 曽山 和彦, 山村 和也
セッションID: E68
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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我々は大気圧マイクロ波プラズマジェットを用いた数値制御PCVMにより,中性子顕微鏡に用いる合成石英製WolterⅠ型ミラーマンドレルの作製に取り組んでいる.プラズマ加工のように加工物表面の温度上昇を伴う化学的加工では,表面温度とエッチングレートの相関の把握が重要である.本報では,表面温度計測に基づくエッチングレートの補正に必要な,プラズマエッチング反応における合成石英ガラスの活性化エネルギーを実験的に求めた.
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減圧PCVMの走査加工時における加工量制御性の向上
境谷 省吾, 舩戸 大輔, 遠藤 勝義, 山村 和也
セッションID: E69
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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現在,我々は1/10気圧程度の雰囲気下で発生させた減圧プラズマを加工に用いるV-PCVM法の開発を行っている.減圧プラズマは大気圧プラズマと比較して加工能率が高く,安定したグロー放電を維持しやすいというメリットがある一方,ステージを高速で走査させた際に電極位置とプラズマ発生位置にずれが生じるという現象が確認されている.本報では上記のずれが生じる要因およびそれが加工精度へ与える影響を定量的に評価した結果を報告する.
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武井 良憲, 松澤 雄介, 三村 秀和
セッションID: E73
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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マンドレルの形状転写によって作製されるX線集光用回転楕円ミラーにおいて,反射X線像のスペックルノイズが問題となっている.そのノイズは,反射表面の1 mm前後の空間波長成分の凹凸に起因しており,使用するマンドレルの表面形状が原因であった.本発表では,その凹凸を除去するための形状修正加工プロセスについて報告する.また,マンドレル作製例について紹介する.
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山口 豪太, 久米 健大, 三村 秀和
セッションID: E74
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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転写技術の一種である電鋳法は常温下で金属相を形成することが可能であり,ナノメートルレベルの形状精度を有する金属製品の量産手法として期待されている.パルス電析法は直流電析法では難しい,微細結晶粒からなる平滑緻密で機械特性に優れた電析膜を得ることが可能であるが,常温下での電鋳法に応用した例は少ない.常温Ni電鋳において,パルス電析条件が電析膜の皮膜特性・残留応力に及ぼす影響を実験的に調査した.
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窒素を利用した方法の提案
久保田 章亀, 横井 裕之, 峠 睦
セッションID: E75
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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近年,ダイヤモンドは,次世代パワー半導体デバイス用基板や切削工具,超硬合金金型の代替型などの幅広い分野での応用が期待されている.しかしながら,ダイヤモンドは高硬度で,化学的に不活性なため,加工が非常に難しい.このような背景のもと,われわれは,乾式環境下でのダイヤモンドの高能率・高精度加工法の開発を進めている.本報告では,窒素を利用したダイヤモンド基板の高能率加工法を提案する.
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オゾンを利用した方法の提案
久保田 章亀, 横井 裕之, 峠 睦
セッションID: E76
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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近年,ダイヤモンドは,次世代パワー半導体デバイス用基板や切削工具,超硬合金金型の代替型などの幅広い分野での応用が期待されている.しかしながら,ダイヤモンドは高硬度で,化学的に不活性なため,加工が非常に難しい.このような背景のもと,われわれは,乾式環境下でのダイヤモンドの高能率・高精度加工法の開発を進めている.本報告では,オゾンを利用したダイヤモンド基板の高能率加工法を提案する.
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溶存酸素の影響調査
東 隆裕, 三村 秀和
セッションID: E77
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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本研究では,砥粒や薬液等を必要としない,純水の噴流を用いたナノメートルスケールでの加工法の開発を目標としている.前回発表では噴流に曝露されたシリコン表面に酸化膜が形成されたことを報告したが,これに水中の溶存酸素が影響していることが考えられる.本報では,アルゴンガスを用いた水槽の脱気装置を製作し,溶存酸素を除去した状態での加工実験結果を報告する.
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光ファイバ部品のマイクロ形状加工を中心にして
松井 伸介
セッションID: F02
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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近年,いろいろなシチュエーション(いわゆる現場)での光の接続技術が注目されてきている.それに不可欠な現場での加工技術の検討を紹介する中で,マイクロ形状加工における様々なメカニズムに述べた.公転と自転を組み合わせた研磨板駆動機構を用いて小型軽量な装置で精度の良い加工を行った例を示した.また,ここでは加工精度を得るために光ファイバ自体が持つ均質で形状精度が良いという特徴を利用した.
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荒木 一宏, 村上 直, 伊藤 高廣
セッションID: F04
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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シリコン基材の3次元微細加工の手法としてエッチングが挙げられる。うち、特定の方向にのみ基材を除去する加工を異方性エッチングという。本研究では,真空環境下および液中での異方性エッチングを組み合わせてシリコン基板表面に対する複合加工を行った。まず真空下でのドライエッチングで作製した柱状構造を、更に液中でのウェットエッチングで加工することにより、複雑な3次元形状の微小構造アレイを作製した結果を報告する。
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船津 仁志, 渕脇 大海, 毛利 紀之, 今井 健一郎, 田中 良巳
セッションID: F05
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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本研究では濡れコイルの側面と部品間に作用する液架橋力を利用した微小物のピック&プレース法の可能性を検討することを目的とする。実験では100μm角のシリコン片のピック&プレースを行い成功確率70%との結果を得た。市販の両面テープ上への配置では100%の確率で配置できた。今後の展開についても報告する。
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堀江 三喜男, 采澤 一成
セッションID: F07
発行日: 2016/08/20
公開日: 2017/02/20
会議録・要旨集
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本研究では,従来の空間機構で使用される球面軸受の機能と同等の機能を実現するために,優れた曲げ耐疲労特性を有するハイトレル(デュポン-東レ社製)を用いた高分子製ヒンジが提案されています.次に,ヒンジの曲げ変形時に低応力値を示す高分子製ヒンジの形状寸法が,FEM解析結果によって見出されています.さらに,この高分子製ヒンジから成る高分子製3自由度空間パラレルマニピュレータを設計・開発し,マニピュレータの出力変位特性が明らかにされています.
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