Ga
2O
3-Al
2O
3のプロピレンによるNO選択還元反応は水蒸気の共存により抑制されたが,In
2O
3-Ga
2O
3-Al
2O
3では大きく促進された。FT-IRによる表面吸着種の観察から,水蒸気非共存下において,NO
3-,acetate,formate,ニトリル(-CN),イソシアナート(-NCO),アミノ(-NH)の生成が認められた。ニトロ化合物の吸着およびNO
3-とプロピレンの反応により生成する吸着種の挙動観察から,NO酸化を経て生成したNO
3-とプロピレンの反応により生成した有機ニトロ中間体が-NCOへと分解され,-NCOの加水分解により生成した-NH化合物とNO
xとの反応によりN
2へ還元される反応機構を推定した。水蒸気の共存により,Ga
2O
3-Al
2O
3,In
2O
3-Ga
2O
3-Al
2O
3ともに反応初期の中間体であるNO
3-の生成が抑制されたが,In
2O
3-Ga
2O
3-Al
2O
3では-NCOの生成・分解が促進された。これが水蒸気による異なる触媒特性の要因と推察した。
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