クラフトパルプエ業廃液よりpHによってチオリグニンの分別沈殿を試みた。沈殿剤としては, pH9以上の領域ではNaHCO
3飽和溶液を使用し, それからpH7まではCO
2を, 酸性領域では, 塩酸を使用して, 合計10フラクションに分別した。次に各フラクションのリグニン中の二三の官能基の量を比較したところ, 沈殿pHが低下するにつれて,(1) フェノール性水酸基およびカルボキシル基は, 漸次増大するが, 後都の増加率は, 前者に比して著しく大きい。(2) カルボニル基は, 漸次減少するが, 特に酸性フラクションでの低下は著しい。(3) グアヤシル基は, 第1フラクション (最高pHフラクション) のみ若干低いが, 他のフラクションでは, ほとんど変わりはない。しかし, これら各フラクションのSBRに対する補強性は, 酸性フラクションを除いて, ほとんど差が見られなかった。
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