色材協会誌

色材の表面・界面および改質層とその分析 (第III報)

ESCAによる表面改質黄鉛顔料の被覆層の厚みの測定

多留康矩, 高岡京, 横山稔, 本田宏

1986 年 59 巻 6 号 p. 315-319
発行日: 1986/06/20
公開日: 2012/11/20

DOIhttps://doi.org/10.4011/shikizai1937.59.315

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黄鉛 (PbCrO₄) の表面改質のために, 顔料表面にSiO₂およびZrO₂をそれぞれ被覆させ, このESCAスペクトルの強度と被覆量との定量的関係を検討し, さらに, 被覆層の厚みの算出を試みた。
両改質願料において, 被覆層からのスペクトル強度と被覆量との相関性は良い。
この顔料の被覆層およびバルク相からのスペクトル強度からそれぞれ算出した被覆層の厚みは被覆量と良い相関性を示した。

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カーボンブラックの低温プラズマ酸化処理における圧力変化

井原辰彦, 伊藤征司郎, 桑原利秀, 木卜光夫

1986 年 59 巻 6 号 p. 320-327
発行日: 1986/06/20
公開日: 2012/11/20

DOIhttps://doi.org/10.4011/shikizai1937.59.320

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カーボンブラックの低温酸素プラズマ処理に関する研究の一環として, プラズマ酸化処理中の反応容器内の圧力の経時変化と, カーボンブラックの種類や採取量, あるいは試料のかきまぜ速度やプラズマガスとの間にどのような関係があるかについて調べた。
反応容器内の圧力は, プラズマ発生直後には, 試料表面と酸素との反応によって生じた反応容器内の酸素の欠乏によって低下したが, プラズマ発生後数分頃からは, 試料の燃焼やスパッタリングによる分解ガスの発生に基づく増加がみられ, その後, 平衡状態に達した。プラズマ発生直後の圧力低下の度合や, その後の平衡状態に達するまでの時間および平衡時の圧力は, 試料の種類, 採取量, 高周波出力, かきまぜ速度およびプラズマガスの違いによって異なり, これまでの報告と良好な対応関係を示した。また, プラズマ発生条件と圧力の経時変化との関係を調べることによって, 試料と酸素との反応性や試料のプラズマ中での安定性を評価できることがわかった。

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二本ロールミルの分級と分散性能

村上泰弘, 鄭基市, 川口恭司, 野田知久, 秋本裕二

1986 年 59 巻 6 号 p. 328-338
発行日: 1986/06/20
公開日: 2012/11/20

DOIhttps://doi.org/10.4011/shikizai1937.59.328

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二本ロールミルの分級作用と分散性能を調べるため, 分級と分散が同時に進行する場合のシミュレーションモデルを考え, 実測値と比較した。シミュレーションモデルでは, 粉砕速度論の考え方を適用し, 破砕関数と新しいパラメーターである粒子のニップ通過率を導入した。実験には, 顔料としてフライアッシュ, アンバー, 炭酸カルシウムを使い, 分散媒として重合アマニ油を用いた。実験では, 破砕関数とニップ通過率を求めた。また, ロール間間隙, かき取った試料の密度変化, 分散後の粒径分布とつぶゲージ値を測定した。
破砕関数とニップ通過率は, 粒子径とロール間間隙の比によって相関できた。ニップ通過率は粒子濃度によっても変化した。これらを使ってシミュレーション計算した結果は, 実測したロール間間隙の時間的変化, かき取った試料の密度変化, 分散後の粒径分布とつぶゲージ値を良く表していた。また, 分散前と後のつぶゲージ値の比は, 分散前のつぶゲージ値とロール間間隙の比によって, ロール速度, 分散媒粘度, 粒径水準, 粒子濃度によらず1本の曲線で相関できることがわかった。

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粉体の基礎物性に関する研究 (第VI報)

数種類のセメントを用いたせん断試験結果と諸物性値との比較

山城光雄, 湯浅泰伸

1986 年 59 巻 6 号 p. 339-346
発行日: 1986/06/20
公開日: 2012/11/20

DOIhttps://doi.org/10.4011/shikizai1937.59.339

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本研究では, 数種類のセメントを用いて一面せん断試験を行い, 内部摩擦角, 内部摩擦係数付着力を求めたところ, 種類によりかなり異なる値を示した。さらに, それらと比重, 比表面積, およびフロー値との相関について調べた結果, フロー値と比表面積, 付着力と内部摩擦角および内部摩擦係数との問には負の相関があることがわかったが, その他の間には明確な関係が得られなかった。

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光音響分光法と色材分析への応用

高岡京

1986 年 59 巻 6 号 p. 347-356
発行日: 1986/06/20
公開日: 2012/11/20

DOIhttps://doi.org/10.4011/shikizai1937.59.347

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光を制御するもの

伊東宇一

1986 年 59 巻 6 号 p. 357-367
発行日: 1986/06/20
公開日: 2012/11/20

DOIhttps://doi.org/10.4011/shikizai1937.59.357

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